Medios filtrantes metálicos de 1μm para la purificación de gases de proceso de semiconductores --- Fabricación de obleas con control de AMC

Elemento filtrante metálico de 1μm (Escala nanométrica)para la purificación de gases de proceso de semiconductores Tipo de producto: Fibra corta de acero inoxidable 316L ultrafina Diámetro de la fibra: 1um/1.5um/2um disponible Longitud de corte: 80-100um Composición química de la materia prima (Peso%) Elementos C Si Mn Ni Cr Mo S P Estándar ≤0.03 ≤1.00 ≤2.00 10~14 16~18 2~3 ≤0.03 ≤0.045 Valor 0.028 0.56 0.5 10.85 16.97 2.1 0.003 0.027 En la fabricación de semiconductores, mantener gases de proceso de pureza ultra alta es fundamental para prevenir defectos y garantizar altos rendimientos. Los filtros metálicos de 1μm juegan un papel vital en la purificación de gases al eliminar los contaminantes particulados y, al mismo tiempo, contribuyen al control de la contaminación molecular en el aire (AMC), lo cual es esencial para la fabricación avanzada de obleas. Características y beneficios clave Filtración de alta eficiencia (retención de 1μm) Captura partículas submicrónicas que podrían causar defectos en los procesos de fotolitografía, grabado y deposición. Reduce el riesgo de contaminación de la superficie de la oblea, mejorando el rendimiento. Químicamente inerte y resistente a la corrosión Fabricado con acero inoxidable de alta pureza (316L), níquel o aleaciones sinterizadas para compatibilidad con gases agresivos (por ejemplo, HF, HCl, NH₃). Resiste la liberación de gases, evitando la contaminación adicional. Capacidad de control de AMC Algunos filtros metálicos avanzados incorporan tratamientos o recubrimientos superficiales (por ejemplo, pasivación, electropulido) para minimizar la adsorción/desorción de compuestos orgánicos volátiles o ácidos. Ayuda a cumplir los requisitos SEMI F21 AMC Clase 1 para procesos sensibles como la litografía EUV. Resistencia a altas temperaturas y presiones Rendimiento estable en condiciones extremas (hasta 500°C o más para algunas aleaciones). Adecuado para líneas de gas CVD, difusión e implantación de iones. Larga vida útil y facilidad de limpieza Reutilizable después de la limpieza (métodos ultrasónicos, químicos o térmicos), lo que reduce el costo de propiedad. Diseño de baja caída de presión para un flujo de gas eficiente energéticamente. Aplicaciones en la fabricación de semiconductores Suministro de gas de pureza ultra alta (UHP) (N₂, Ar, H₂, O₂, etc.) Procesos de grabado y deposición (CVD, PVD, ALD) Fotolitografía (entornos EUV/DUV sensibles a AMC) Filtración de gas a granel y en el punto de uso (PoU) ¿Por qué filtros metálicos sobre alternativas? Durabilidad superior frente a los filtros poliméricos (que pueden degradarse y desprender partículas). Sin desprendimiento de fibras a diferencia de los filtros HEPA/ULPA tradicionales. Mejor mitigación de AMC en comparación con los filtros de partículas estándar. Cumplimiento y estándares SEMI F20 (Control de partículas) SEMI F21 (Clasificación AMC) ISO 14644-1 (Estándares de sala blanca) Conclusión Los filtros metálicos de 1μm son una solución robusta para la purificación de gases de semiconductores, que combina filtración de partículas, control de AMC y resistencia química para satisfacer las exigentes demandas de la fabricación avanzada de obleas.